日本技術(shù)人員轉(zhuǎn)投海外企業(yè)、技術(shù)流失的問題日益嚴(yán)重。韓國三星集團成為了日本技術(shù)人員最大的轉(zhuǎn)職去處。在三星集團飛躍的背后，日本技術(shù)人員培育的高超技術(shù)在做支撐。
松下、NEC、東芝、日立制作所。這些公司都是技術(shù)人員轉(zhuǎn)職到韓國三星集團的“大戶”。積極聘用日本技術(shù)人員的三星，把日本公司培育的技術(shù)經(jīng)驗最大限度轉(zhuǎn)化成了自己的優(yōu)勢。
乘著“安倍經(jīng)濟學(xué)”的東風(fēng)，日本制造業(yè)整體上處于略微恢復(fù)態(tài)勢。但從各家企業(yè)的具體情況來看，多數(shù)企業(yè)如今還很難說已經(jīng)脫離了困境。
2010年，GDP（國內(nèi)生產(chǎn)總值）滑落到世界第3位；2011年，世界專利申請件數(shù)跌至第3位——近年來，日本在全世界的地位明顯下滑。從新興市場國家的飛速發(fā)展，以及日本人口減少的預(yù)測來看，要想打破衰退的局面，可以說是非常困難的。
競爭力源泉的人“財”不斷流失
但有一點可以確定。要想獲得強大的競爭力，就必須更加認(rèn)真地培養(yǎng)、網(wǎng)羅優(yōu)秀的人“財”。正如武田信玄的名言“人是城、人是墻”，對于公司而言，最重要的是人“財”。
但最近幾年日本出現(xiàn)了一個非常嚴(yán)重的問題——日本技術(shù)人員不斷向海外流失。原本隸屬于日本企業(yè)的技術(shù)人員因為重組或是獵頭，大多轉(zhuǎn)投韓國、臺灣、中國大陸等海外企業(yè)，帶走了之前在日本公司累積的大量技術(shù)經(jīng)驗。但至于流失的程度有多嚴(yán)重，卻鮮有調(diào)查數(shù)據(jù)。
此次，筆者就把目光對準(zhǔn)長期籠罩著一層面紗的日本技術(shù)人員流失問題。通過專利信息，對實際情況進(jìn)行分析。
分析對象僅限日本的專利信息（向日本專利廳提交的信息），這是因為調(diào)查針對的是日本技術(shù)人員。估計人“財”流失的實際規(guī)模要大于本次分析的結(jié)果。
除了近1年半以來申請的專利，專利信息原則上全部公開，本文就以這些公開信息為分析對象。
數(shù)據(jù)利用專利搜索服務(wù)“SRPARTNER”（日立系統(tǒng)制作）抽取（截至2013年5月1日），分析作業(yè)使用了“INNOVATION NAVI”（COSMOTEC Patent Information Systems制作）等軟件。
專利申請：日本減、海外增
下圖匯總了日本專利廳專利申請件數(shù)的變化情況。專利申請總件數(shù)以前維持在1年約40萬件的水平。后來，為了減輕專利廳的負(fù)擔(dān)、加快審查速度，若干相關(guān)法律做了修改，受此影響，再加上重視質(zhì)量，專利數(shù)量呈緩慢減少的趨勢。
受到2008年雷曼危機的影響，從2009年開始，申請件數(shù)大幅減少。這是眾多日本企業(yè)受到經(jīng)濟倒退的打擊，紛紛減少申請件數(shù)的結(jié)果。與此幾乎同時，眾多企業(yè)開始裁員。 
反觀向日本申請專利的海外企業(yè)，中國大陸的增長尤為顯著，臺灣基本持平，韓國也從2010年開始回暖。由此可以猜測，當(dāng)日本技術(shù)人員在裁員中丟掉飯碗的時候，海外企業(yè)成了他們的歸宿。而且，海外企業(yè)求賢若渴，在他們看來，即使不在裁員之列，技術(shù)好、待遇差的日本技術(shù)人員也稱得上是上佳的獵頭人選。
下表匯總了韓國、臺灣、中國大陸代表性企業(yè)的申請件數(shù)與發(fā)明人數(shù)。韓國企業(yè)因為申請件數(shù)多，所以統(tǒng)計的時間段縮短到了2008年以后。
三地中，以韓國三星電子為代表的三星集團在申請件數(shù)上一枝獨秀。把亞軍LG遠(yuǎn)遠(yuǎn)拋在了后面。在發(fā)明人數(shù)中，日本人占到了225人之多。 
臺灣企業(yè)中，鴻海精密工業(yè)的申請件數(shù)最多。值得關(guān)注的是，日本人發(fā)明的專利占到了7.2％，比例也非常高。
與二者相比，中國大陸企業(yè)的發(fā)明人之中幾乎沒有日本人。世界知識產(chǎn)權(quán)組織（WIPO）表示，2012年，在各企業(yè)根據(jù)《專利合作條約》（PCT）提交的國際申請中，中興通訊（ZTE）排名第一，華為技術(shù)名列第四，中國企業(yè)自身實力的飛躍顯而易見。
2012年的申請目前尚未公開，因此在本數(shù)據(jù)中沒有體現(xiàn)。另外，2012年以前提交的申請雖然進(jìn)入了公開期，但本數(shù)據(jù)中不包含未轉(zhuǎn)移到日本的申請（這種情況適用于所有申請，并非針對中國企業(yè)）。鑒于以上情況，對于新興的中國企業(yè)，目前還看不到明顯的趨勢。但今后，中國企業(yè)的申請件數(shù)無疑將會增加，與此同時，日本技術(shù)人員的動向也將受到關(guān)注。
根據(jù)以上推斷，從目前的數(shù)據(jù)來看，三星可以認(rèn)為是日本技術(shù)人員最大的接收企業(yè)。下面，筆者將把焦點鎖定三星來進(jìn)行分析。
極為重要的橫濱研究所
三星在世界各地設(shè)有從事R&D（研發(fā)）的研究所。三星主頁上介紹了14家主要研究所，其中，橫濱研究所設(shè)在日本。該研究所以株式會社的形式獨立經(jīng)營，自從1992年成立以來，一直在通過自主或與總部合作的方式，積極開展研究、專利申請與注冊業(yè)務(wù)。
從橫濱研究所官網(wǎng)的介紹來看，該研究所共有員工551人（截至2012年12月）。迄今為止，共在日本申請專利288件，參與專利開發(fā)的日本技術(shù)人員有182人。
而在整個三星集團，包括橫濱研究所在內(nèi)，2002年以后，參與申請日本專利的日本技術(shù)人員為485人。橫濱研究所的影響力之高可見一斑。
近年來，橫濱研究所的重要性更是與日俱增。在2009年之前，該研究所1年新聘的日本技術(shù)人員均不足20人。但進(jìn)入2010年后，這一數(shù)字增加到了52人。
從轉(zhuǎn)職到申請專利需要的時間或許因人而異，但是，如果按照1～2年計算，我們可以認(rèn)為，在2008～09年期間，出現(xiàn)了大量的轉(zhuǎn)職人員。由此可以推測，三星戰(zhàn)略性地聘用了日本企業(yè)在雷曼危機之后裁減的人員。
松下是最大的人“財”來源
包括橫濱研究所在內(nèi)，轉(zhuǎn)職到三星集團的日本技術(shù)人員主要來自哪些企業(yè)呢？為此，我們追蹤了參與三星日本專利申請的485名日本技術(shù)人員，在下面表格中，統(tǒng)計了他們原來任職的公司。結(jié)果，日本著名的電子廠商悉數(shù)上榜。
其中，來自松下的人數(shù)最多。松下收購的三洋電機排在第五名。之后是第二名的NEC，第三名的東芝和日立制作所。
在這些公司中，技術(shù)人員分別參與的是哪些領(lǐng)域的專利申請呢？為了對此進(jìn)行調(diào)查，下圖通過FI號（專利廳授予的技術(shù)分類代碼），按照技術(shù)人員原來所在的企業(yè)，匯總了技術(shù)領(lǐng)域。由此可以得出以下結(jié)論。
①在圖像處理及通信技術(shù)（FI號H04N，下同）領(lǐng)域，原三洋電機與富士通的員工最多；②在光盤相關(guān)技術(shù)（G11B）領(lǐng)域，原松下與東芝的員工最多；③在有機EL（電致發(fā)光）相關(guān)技術(shù)（H05B）領(lǐng)域，原NEC的員工獨占鰲頭；④在電池相關(guān)技術(shù)（H01M）領(lǐng)域，原松下與日立的員工最多；⑤在半導(dǎo)體裝置相關(guān)技術(shù)（H01L）領(lǐng)域，原瑞薩電子的員工最多。
顯而易見，轉(zhuǎn)職者把老東家代表性技術(shù)領(lǐng)域的經(jīng)驗運用到了三星的專利申請之中。
上面5個技術(shù)領(lǐng)域是按照申請件數(shù)多少的順序排列的。而申請后成功注冊的專利中，件數(shù)最多的是有機EL相關(guān)技術(shù)（下圖）。234件申請中，有137件注冊，注冊率超過58％。電池相關(guān)技術(shù)的注冊率也超過了50％。
圖像處理及通信技術(shù)的申請件數(shù)雖然最多，為293件，而注冊件數(shù)只有96件，注冊率僅為約30％。
除此之外，按照普遍觀點，被其他公司專利引用的次數(shù)（審查官引用）與專利價值的多寡具有相關(guān)關(guān)系，通過對該數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，筆者發(fā)現(xiàn)，與其他技術(shù)相比，日本技術(shù)人員參與的有機EL相關(guān)技術(shù)的申請被引用的次數(shù)接近前者的3倍。顯示出了日本技術(shù)人員在該領(lǐng)域的技術(shù)優(yōu)勢。
傳聞三星擁有中小型有機EL面板9成的份額。在這個份額的背后，日本技術(shù)人員無疑做出了卓越的貢獻(xiàn)。
今后致力于發(fā)展電池技術(shù)
接著，筆者分析了三星的日本技術(shù)人員近年來鉆研的技術(shù)主題。下圖按照技術(shù)領(lǐng)域，分類匯總了三星的日本技術(shù)人員參與的申請的變遷。由圖可知，此前，圖像處理及通信技術(shù)的總數(shù)最多；而近年來，電池相關(guān)技術(shù)開始增加。
由于最近1年半的專利信息原則上保密。2011年、2012年之所以也有數(shù)據(jù)，是因為申請了加快審查速度，公開時間比通常要快。由此可以推測，在三星來看，這些發(fā)明非常重要，可以說，同期的申請件數(shù)與該公司專注的程度之間存在極高的相關(guān)關(guān)系。
而在申請件數(shù)有所增加的電池相關(guān)技術(shù)中，對該技術(shù)進(jìn)一步細(xì)分可以發(fā)現(xiàn)，關(guān)于活性物質(zhì)的申請的增幅尤為顯著。
該領(lǐng)域主要與鋰離子電池內(nèi)的活性物質(zhì)、尤其是表面覆膜的活性物質(zhì)有關(guān)。在該領(lǐng)域，各公司從1990年代后期開始全面進(jìn)行開發(fā)，總申請件數(shù)現(xiàn)在仍在持續(xù)增加，是整個行業(yè)研究的熱點。
2009年之前，該領(lǐng)域申請數(shù)量最多的是包括三洋電機在內(nèi)的松下集團。然而，到了2010年以后，豐田登上首位，松下集團退居第二，三星躍升到了第三名。從申請內(nèi)容分析，豐田主要是當(dāng)紅的車載用途等大型電池。三星則是以智能手機、平板電腦等使用的小型電池為主，著眼點各不相同。
2012年，三星小型鋰離子電池的供貨份額超過了松下，登上了全球第一的寶座。該領(lǐng)域及其他領(lǐng)域申請專利的技術(shù)估計有助于擴大份額。
對于活性物質(zhì)的相關(guān)申請，為了詳細(xì)分析各公司的技術(shù)特點，我們使用了F項分類（由日本專利廳授予、與FI號分類方式不同的技術(shù)分類代碼）。下圖選取2010年后在該領(lǐng)域申請數(shù)量靠前的5家公司，對其情況進(jìn)行了分析。各公司開發(fā)的重點，主要圍繞改善充電循環(huán)壽命和提高容量效率。三星也是如此。
在該領(lǐng)域三星提出的申請中，日本技術(shù)人員參與了一半以上。在與對手競爭激烈的最尖端的領(lǐng)域，三星的日本技術(shù)人員可以說表現(xiàn)出了極高的貢獻(xiàn)度。
三星也有技術(shù)人員轉(zhuǎn)職
日本技術(shù)人員流失的背景在于原公司業(yè)績惡化、無法養(yǎng)活技術(shù)人員。要想克服這個問題，就必須調(diào)整研發(fā)戰(zhàn)略、事業(yè)戰(zhàn)略、知識產(chǎn)權(quán)戰(zhàn)略，但是，倘若把目光投向每一名技術(shù)人員，為追求更好的環(huán)境而轉(zhuǎn)職的在日本國內(nèi)早已有之，就個人發(fā)展而言，可以說是理所當(dāng)然。
但有一點需要注意。對于日本技術(shù)人員，轉(zhuǎn)職的下家是不是穩(wěn)定的歸宿？這對于國內(nèi)轉(zhuǎn)職也同樣適用，因為“插班生”往往會受到苛刻的對待。倘若得不到信賴，技術(shù)人員身上的技術(shù)一旦過時，也就淪為了“廢品”。在這一點上，海外企業(yè)的做法更加冷酷。
在此次分析的485名三星的日本技術(shù)人員中，133人已經(jīng)在日后變?yōu)槠渌髽I(yè)的發(fā)明人。基本上已經(jīng)離開了三星。比例高達(dá)27.4％。而厚生勞動省的2011年雇用動向調(diào)查顯示，制造業(yè)的平均離職率為9.7％，可見三星的日本技術(shù)人員再次轉(zhuǎn)職的離職率是很高的。
如果把在三星的第一次申請與最后一次申請之間的時間段視為任職期間，上述133人的平均任職期間約為2年零6個月。實際任職期間估計還要再久一點，但也屬于短的了。
當(dāng)然，短期內(nèi)再次轉(zhuǎn)職并不一定都是壞事。但對于希望長期工作的技術(shù)人員而言，這個數(shù)據(jù)可以說很不樂觀。
那么，已經(jīng)離開三星的，究竟是哪些領(lǐng)域的技術(shù)人員呢？從這些人員在新公司申請專利的技術(shù)領(lǐng)域來看，半導(dǎo)體裝置相關(guān)技術(shù)最多。三星在該領(lǐng)域的申請數(shù)量于2006年達(dá)到頂峰，之后不斷減少，由此可以預(yù)測，三星對該領(lǐng)域做出了戰(zhàn)略整理。
另外，在三星近年來大力發(fā)展的電池相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域，也有近20人退職。人才流動的速度之快可見一斑。
根據(jù)以上分析，日本技術(shù)人員流失現(xiàn)狀浮出了水面。實際上，如果調(diào)查一下接收企業(yè)在各國當(dāng)?shù)氐纳暾垼蛟S還會發(fā)現(xiàn)更多參與申請的日本人，在近1年半的保密期內(nèi)，或許出現(xiàn)了更嚴(yán)峻的事態(tài)。人“財”的流失已經(jīng)侵襲到了日本企業(yè)的每一個部門。
人“財”的國際交流有利于世界技術(shù)革新。但單方向的流失是造成國力低下、企業(yè)競爭力低下的直接原因。要想阻止這樣的潮流絕非易事。日本企業(yè)的管理層必須從根本上調(diào)整思路的時刻已經(jīng)近在眼前。（特約撰稿人：武藤謙次郎）
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